光刻机|反对也没用！光刻机新规定来了，ASML将彻底无缘中国市场？( 二 ) 阿斯麦尔|纳米|芯片

在这些光刻机的最终买家来看，来自中国大陆的占比是非常高的，拥有34%的销售占比，而像美国和日本只有6%和7%左右，足以看出中国市场对于ASML的重要性，如果ASML失去中国大陆市场的话，还会引发一系列的连锁反应，比如客户恐慌等等，在营收数据上可能会几乎“腰斩” 。

不管从什么方面来看，中国大陆市场对于ASML都非常的重要，即便是在整个行业受到了缺芯以及疫情反复的情况影响，中国整个芯片市场依然是逆势增长。而对于大力发展芯片行业的中国市场，先进的光刻机绝对是很多半导体企业的刚需，一旦提高芯片制造的产能，还会进一步刺激中国芯片产业继续扩大产能，中国市场对于AMSL的重要性会进一步加强。
其实对于ASML来说，他们也非常了解中国市场对于公司的份量， ASML的公司高管其实不止一次的对外公开表示，中国是ASML的最好合作伙伴，中国市场对于ASML来说也非常重要，但是市场规则被老美修改之后，其实ASML也确实无能为力。并且ASML高管曾经不止一次的警告过老美，如果再继续全面封锁和打压的话，只能加速中国的自主研发道路，甚至还有可能会唤醒其他国家的独立意识，到时候吃亏的恐怕就不只是ASML了。
其实，在国内的话，我们也在光刻机产品进行了发力，虽说EUV光刻机还是只有ASML可以独家生产，但是对于整个芯片行业来说， EUV光刻机确实是只占了很小的一部分，事实上，即便是5纳米这样的先进工艺，都不是全部需要EUV光刻机进行生产，只是很小一部分只需要EUV光刻机，大部分都是使用的DUV光刻机完成的。所以，不管是EUV还是DUV光刻机都是非常重要的，即便是有DUV光刻机相关的产业得到了突破，都是非常振奋人心的。
而目前的DUV光刻机又分为好几个种类，主要为KRF、ARF和ARFi几个类型，其中比较先进的就是ARFi光刻机，也就是所谓的浸润型光刻机，等效波长能够达到134纳米，而ARF和KRF光刻机的波长则分别是193纳米以及248纳米，波长越短越先进，换句话说， ARFi光刻机是DUV光刻机中最先进的，能够掌握ARFi光刻机的话，就是目前DUV光刻机的全部技术。

如果想要突破最先进的DUV光刻机，从名字上我们就能看出，难点是在于浸润的技术，这也是我们国产光刻机为什么长时间不能突破28纳米的最关键原因之一。不过，最近我们国内的相关企业奇尔机电，在光刻机浸润技术方面得到了相关的突破，在高端集成半导体产业上，也成功迭代到了第八代，实现了浸润时对于液体的高精度控制，可以控制到0.001度的误差，可谓是相当不容易。
并且相关的光刻机研发实验基地，也开启了中期的测试以及试产，换句话说就是现在DUV光刻机的研制以及基本不成问题，未来着重解决的就是良率和生产率的问题。再加上前段时间国望光学在光刻机曝光系统以及镜头提供上，做出的技术突破，可以说在浸润型光刻机上的主要技术难点，都已经被基本突破了。

可能有人觉得不就是28纳米而已，有一些不以为然，但需要知道的是， 28纳米算是一个关键的技术节点，只要突破了28纳米，很快就会来到20纳米甚至是14纳米。并且由于在关键技术上，比如曝光系统、光源有了很好的突破，在未来即便是达到7纳米技术来说，至少在光刻机上，区别还是并不太大的。
在2022年的4月份中，清华大学的朱煜教授做带头的团队，发布公开消息，表示在团队和华卓精科公司的共同突破下，自研光刻机双工作台研发成功，后者则是中国光刻机核心零部件的顶尖供应商，也算是打破了ASML在光刻机双工作台领域的垄断，成为全球第二家拥有此项技术的公司以及团队。

如果我们放到ASML的老路来看， ASML从28纳米的光刻机到7纳米的光刻机，用了5年左右的时间，不出意外的话，我们也需要五到六年时间，才可以有机会突破到7纳米的技术上来。尽管我们的光刻机水平和国外先进技术依然有不少的差距，但进步非常明显，总有一天我们也一定可以追上国际先进光刻机技术的步伐。