小米科技|俄、日纷纷传来消息，ASML彻底失算了小米科技

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【小米科技|俄、日纷纷传来消息，ASML彻底失算了】

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众所周知，光刻机是工业皇冠上的明珠，由十万多个零部件组成，重达近200吨，集合了世界各国最顶尖的技术，每项技术都是独一无二的，可以说是全球工业技术的巅峰，在半导体制造行业具有极其重要的地位。美国为了阻碍中国半导体事业进步，将中国半导体生产限制在10nm以上，对中国实施了严格的禁售，而作为光刻机最重要的生产商阿斯麦，长期垄断这一市场，摄取高额的利润，阿斯麦发言人更是讽刺得说：“将全套的技术给中国，他们也生产不了光刻机” ，此话一出，让无数国人愤怒又无奈。

“02专项”出窍，看国内现状
中国目前技术最为先进的光刻机是上海微电子公司生产的90nm光刻机，其实对于光刻机的发展，中国一直在不断尝试，早在06年就成立了02专项，经过十几年的发展，在光刻机各方面已经有了长足的进步。光刻机主要分为哪些部分呢？其实主要是双工件台、光学系统、物镜系统、控制软件，让我们看看国内在这些方面都有哪些突破呢？双工件台由华卓精科负责，华卓精科成功研发超精密磁浮双工件台系统，打破ASML垄断，使中国成为全世界第二个掌握该项技术的国家。科益虹源负责光源系统，唯一知道的是国内首台高能准分子激光器顺利出货，打破国外垄断，国望光学参与物镜系统的打造，至于控制软件还有待完善产业链，就差这最后一块版图需要拼接了。

上海微电子作为02专项的集成设备厂商，目前还没有正式发布28nm的光刻机，由此看来，还需要一段时间，但随着中国铁了心地坚持自主研发，阿斯麦也没闲着，而是提前在中国发布能够生产28nm芯片的光刻机，并在中国大陆大量布局了光刻机相关专利，据说高达3000多项，很明显他要从市场和技术两方面同时限制中国光刻机的发展，始终认为中国才是他的唯一威胁，但俄、日也纷纷入场，阿斯麦然而它失算了。

另辟蹊径，一心超越EUV
近日有消息称俄罗斯正在开发一款全球领先的光刻机，甚至比ASML最先进的EUV光刻机还先进，俄罗斯莫斯科电子技术学院承接了贸工部开发制造芯片的光刻机项目，该项目由俄罗斯政府首期投资6.7亿卢布资金（约合5100万元人民币）。

研发的光刻机计划达到EUV级别，但技术原理完全不同，是基于同步加速器和/或等离子体源”的无掩模X射线光刻机，成本相对低廉， X射线光刻机使用的是X射线，波长介于0.01nm到10nm之间，比EUV极紫外光还要短，因此光刻分辨率要高很多，加上俄罗斯具有雄厚的工业基础，可以一探究竟。有网友表示，在财政困难的情况下，竟然拿出如此一笔巨款开发光刻机，相信俄罗斯是认真的，一旦研发成功或将也惠及中国半导体市场。毕竟俄罗斯苦美久已，不会遵守美国对中国的无理制裁要求。
沉寂已久，重出江湖
得益于雄厚的工业实力，日本在光刻机领域有着全球最多的专利，其中仅最尖端的EUV光刻机就占据了45.5% ，但由于技术路线选择错误导致逐渐没落，但瘦死的骆驼比马大。难道他们会甘心？显然最近的消息证明他们还是想拼一把。

据日经中文网报道，佳能正在开发用于半导体3D技术的光刻机。佳能光刻机新品最早有望于2023年上半年上市。曝光面积扩大至现有产品的约4倍，可支持AI使用的大型半导体的生产， 3D技术是可以通过堆叠多个半导体芯片使其紧密连接来提高性能的方式。可能看到了苹果M1 Ultra处理器在芯片堆叠技术的大获成功，以及最近非常火热的小芯片技术，感觉3D技术会很香，让日本厂商看到了在此翻身的希望。
写在最后，光刻机市场一时间风起云涌，相信这一定让ASML非常担心，担心自己的垄断地位不保，前几天ASML一哥还放软话， “不是我们不愿意卖，而是受政府限制。 ”俄罗斯、日本都在从新的技术和市场角度研发更先进的光刻机，这也为中国更先进的光刻机研发提供了一些参考，但无论如何我们都要走技术创新的路线，放弃任何依赖他国的想法，突破关键领域“卡脖子”难题。