芯片|取代光刻机？芯片制造“新技术”曝光，国产芯转机出现！光刻机|光刻胶|华为|it芯片|重

文章图片

文章图片

文章图片

随着国产科技实力的不断提升，不管是5G通讯领域，还是在全球智能手机领域，中国电信巨头华为可谓是一路凯歌，不仅在5G领域拿下了5G专利榜第一名，智能手机领域超越了苹果，成为了全球第二大手机企业，更重要的是，华为在半导体领域的影响力正在威胁着美国半导体霸主的地位。
变幻莫测的国际环境，美国开始对华为、国产芯片企业进行技术封锁，华为芯片供应链被切断，国产芯片巨头中芯也被“断粮” ，高端芯片制造能力的不足，让我们尝到了什么是“剔骨之痛”！然而，想要解决高端芯片制造问题，一方面要打破由西方国家主导的高端极紫外光光刻机的壁垒，另一方面要解决光刻材料光刻胶。
与我们平时所用到的胶水不同，光刻胶对感光性，抗蚀性、粘附性，表面张力等要求非常高。芯片制造过程中，光刻机将光刻胶均匀涂抹在晶片上，再用光源对晶片进行“照射” ，将电路照射到晶片上，由于光刻胶对光源的敏感性，就形成了设计好的电路形状的模具，再经蚀刻、清洗最后形成芯片。
芯片制造新技术而在这些过程中，光刻胶直接影响着芯片的光刻精度，更重要的是，在光刻胶领域，日本、美国、德国近乎垄断了全球90%的市场份额，光刻胶也是阻止高端芯片制造“国产化”的一个壁垒。
面对西方对高端芯片垄断，浙江西湖高等研究院传来消息，曝光了比肩光刻技术的“冰刻”技术。
冰刻，这是西湖大学副校长仇旻教授从2012年从海外回国后就开始开启的一项基础科学研究计划。与光刻机不同，冰刻的做法是在-140°密闭真空的环境下，通过水蒸气低温结冰的特性，迅速在晶片上形成冰膜，然后用电子束在冰膜上进行刻录，形成三维电路结构，之后在进行填充，常温下冰干后自动挥发。
据消息称，目前国产冰刻技术已经能在光纤末端做出复杂的微纳米冰雕，并且“产能”非常理想。不难发现， “冰刻机”完全有希望取代传统的“光刻机” 。
冰刻技术有什么优势？冰刻技术的曝光，不少网友必然会拿冰刻机与光刻机进行对比，究竟冰刻机有什么优势？
首先，光刻芯片制造，需要将光刻胶均匀地涂抹在晶片上，不管是光刻胶质量，还是晶圆的质量，都影响到了芯片制造精度，完成后还需要除胶，而冰刻技术则不用考虑这一系列的问题。
其次，电子束与极紫外光相比，加工精度更高，效率也更高，芯片的集成度也更高，性能也更强。
冰刻技术，对推动国产高端芯片技术的制造起到了重要推动作用，也是为了应对高端芯片垄断，为未来取代光刻机迈出的一大步！这对于陷入“芯片危机”的华为来说，也可能将迎来转机？
【芯片|取代光刻机？芯片制造“新技术”曝光，国产芯转机出现！】千里之行始于足下，任何重大核心技术的突破，都是建立在许多重要的基础科研之上，而打破高端芯片、光刻机的垄断，我们一直没有停止前进的脚步！