光刻机|再次确认国产光刻机研制成功时，ASML都没成立 asml

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大部分人不了解光刻机的发展历程，所以对于光刻机的原理，以及发展到如今，成为制约国产芯片发展的主要障碍，都感觉到迷惑。先来说说光刻机的发展， 1978年，美国GCA公司制造了第一台光刻机， 1500nm工艺，之后经过多年的发展，逐步发展到1999年的180nm 。

【光刻机|再次确认国产光刻机研制成功时，ASML都没成立】
这个时期采用的激光的光源，都是波长都比较长，有436nm ，和365nm ，之后开始使用248nm的波长作为光刻机。在2001年后，光刻机市场在193nm光源处，停滞了多年，一直无法突破，没有办法在波长下降的同时达到能量的不变。因此经历了长达20年的研究（1999年就开始研发级紫外线技术，光刻机），终于在2013年成功，并且量产出货，如今EUV光刻工艺，已经到5nm工艺阶段， 7nm工艺已经非常成熟。

光刻机的原理其实就是激光雕刻机，其实就相当于，将放大的一个电路板，根据光照的情况，哪里没有遮挡，就会有光投过去，通过一个镜头（物镜）将激光投射到下面的晶圆上面，有激光照射的地方除去表面的掩膜，蚀刻液就会立刻进行雕刻。

从上世纪开始，尼康，佳能， ASML三家就一直把持着光刻机的市场。整个光刻机的市场，就是在光学技术领域的发展中不断进化，所以不存在所谓的外来世界的技术，只是技术的进步比较快，并且国内错过了比较好的时期而已。 1980年之前，国内其实很早就研发光刻机， 1978年上海光学机械厂就已经研制陈宫了JKG-3光刻机，当时ASML还没有成立，佳能，尼康还是光刻机行业的大佬。那个时候，国内同国外虽然有差距，但是还没有现在这么远。

在进入1980年之后，国内也没有再向之前那样扶持光刻机的发展，并且受到国际市场产品的冲击，国内国企当时的成本较高。没有足够的下游芯片制造市场购买光刻机，产品就逐步淘汰了。可以说国内曾经丢失了，我们可以留待今天绝地反击的底牌。